大尺寸多温区真空管式炉
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此设备是为高等院校，科研院所及工矿企业对金属、非金属及其它化合物材料在真空或者气氛状态下进行烧结、融化、分析而研制的专用设备，
它采用PLC控制，触摸屏操作，您只需通过轻轻点击触摸屏即可完成所有的参数设定，也可满足各类CVD工艺的需求。
1、真空、气氛烧结均可。
2、控制稳定可靠，操作方便，安全防护措施完善。
3、采用先进的PID自学习模糊控制，控温精度高，保持在±1℃。
4、炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料，保温效果更好，节能降耗。
5、具有物联网功能（WIFI），可通过手机、电脑远程对设备进行监控，操作。
6、数据存储功能，可保存烧结的重要参数，时长达30天之久（每天开机8小时），配方功能，可预存配方20条。
7、联网功能，通过RJ45接口，采用TCP/IP协议，可以让系统与上位机相连（上位机需安装相应软件）。
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