免费体验：精确测量光刻胶固含量，助力半导体工艺效率飞跃
精细工艺，从光刻胶开始
光刻胶，又称光致抗蚀剂，一种特殊的光敏物质，是微电子和半导体制造中不可或缺的材料，同时也是集成电路制造的核心耗材。它不仅关系到产品的最终性能，更是成品率和可靠性的决定性因素。
图片来源：光刻胶企业实验室实拍
在半导体光刻工艺流程中，包括了脱水烘烤、旋转涂胶、软烘、曝光、曝光后烘烤、显影、坚膜烘烤、显影检查等环节，只有使用固含量合适的光刻胶，才能确保上述流程顺利进行。
比如，在旋转涂胶的环节中，如果使用了固含量偏高的光刻胶，就会导致涂布后形成相对较厚的薄膜；反之，则会形成较薄的涂膜，直接影响了图案的精细程度和分辨率。又比如，在显影环节，如果选用了固含量较高的光刻胶，则会大幅增加所需的显影时间，降低了生产效率的同时，也会更容易导致光刻胶曝光后发生形变或收缩，导致图案的失真和变形。
图片来源：光刻胶企业实验室实拍
因此，对于光刻胶研发生产企业来说，只有准确快速地测试光刻胶固含量，才能确保产品质量合格，并符合客户要求。然而，如果使用传统的烘箱，则会面临光刻胶在进出烘箱时吸水，导致测试结果不准、测试效率低（通常需要数小时）的问题，无法完全满足实验需求，耽误生产及研发进度，给客户带来损失。
面对这样的挑战，超越系列快速水份测定仪则能完美解决这些问题，同时确保绝佳的测试重复性，助您轻松应对光刻胶的固含量测定。
光刻胶固含量测定新革命
01
创新后置式传感器设计，防止有机溶剂冷凝回流对结果造成影响
02
温和升温模式，最大程度防止有机溶剂冷凝回流，给测量造成误差
03
快速加热，称重传感器持续记录样品重量并自动判断恒重，测试结束后直接显示固含量结果，避免光刻胶在实验过程中吸水
如需试用，请扫描下方二维码
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