【飞纳三点半】第 69 期直播通知：走进苏州体验中心，实地体验粉末原子层沉积技术
- 2023.11.8 -
飞纳三点半
第69期
粉末材料因为较高的比表面积和表面缺陷的限制
存在易团聚、寿命短等缺陷
制约了其应用的发展
为了克服这些缺陷
采用粉体表面改性的方式可极大提升材料性能
而传统的液相包覆或气相包覆手段
无法实现均匀以及厚度的精密控制
限制了包覆技术的进一步发展
原子层沉积技术（ALD）
是一种自限制性的化学气相沉积手段
通过将目标反应拆解为若干个半反应
实现表面涂层的原子层级厚度控制
一般 ALD 二元反应机理示意图
原子层沉积技术制备的涂层具有
共形、无针孔和均匀的特点
利用原子层沉积方法在粉末表面构筑涂层的方式
被称为粉末 / 颗粒原子层沉积（PALD）
PALD 技术制备的薄膜更均匀 (左: 溶胶凝胶法；右: ALD)
Forge Nano
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Forge Nano 经过多年研发
已开发出低成本的规模化粉末原子层沉积包覆技术
成为使用 PALD 工艺进行
材料科学创新和商业化方面无可争议的领导者
广泛应用于锂电、催化、金属、制药等领域
目前已经为橡树岭国家实验室、马里兰大学
美国国家可再生能源实验室等研究院所
提供解决方案
// //
01.
飞纳三点半 直播通知
PHENOM
第 69 期
ALD 原子层沉积技术具体是什么？
技术原理与难点是什么？
什么使用 ALD 技术包覆会更均匀？
ALD 技术与 PALD 技术有何区别？
PALD 设备可以实现包覆哪些粉末？
应用在哪些领域？
什么样的粉末材料适用于 PALD 设备？
该设备特有的流化床技术有那些特点与优势？
本期【飞纳三点半】
我们走进苏州体验中心
一起聊一聊原子层沉积技术
了解先进的粉末包覆设备
>>>>
如果大家有其他感兴趣的问题也欢迎在后台留言提问，我们将在直播间为大家解答
02.
飞纳三点半 直播福利
PHENOM
直播将有 3 波不定期福利，参与直播间互动，有机会获得精美礼品一份。
注：参加活动必须关注视频号，具体活动方式将在直播间公布，请持续关注；本次活动最终解释权归所有。
>>>>
每周三的三点半
视频号
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